המטרה לייצר דיור אלקטרוניקה high-end זה היה להפגין רמה גבוהה של כרסום שיוצרת יכולה להיות מושגת תוך זמן קצר מחזור. DATRON פרמטרים וכלים שימשו בתהליך הטחינה. האסטרטגיה הטחינה כללו את השימוש אורך חיתוך כל כלי לא. 2, אורך 26 מ'מ עם הזנת Z. לאחר מכן, כיס עם הזנה רוחבית של 1 מ'מ עובד בצורה דינמית. גישה זו מבטיחה זמן עיבוד מהיר יותר, פחות לובשים כלי מאשר עם אסטרטגיה כרסום קונבנציונלי. ראה את המדגם הזה שנטחן בשידור חי בביתן N-6021 ב-IMTS 2014.