यह एक केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड यौगिक है, पानी और हाइड्रोजन पेरोक्साइड (ऑक्सीजन) 70 . के अनुपात में:30. उत्पादन के दौरान बहुत सावधानी बरतनी चाहिए और हाइड्रोजन पेरोक्साइड को बहुत धीरे-धीरे एसिड में जोड़ा जाना चाहिए, मिश्रण के दौरान अधिमानतः. पिरान्हा समाधान अक्सर माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग में उपयोग किया जाता है, उदाहरण के लिए. सिलिकॉन टाइल्स से प्रकाश प्रतिरोधी अवशेषों की सफाई के लिए. इसका उपयोग कांच के कंटेनर या पाइप की सफाई के लिए प्रयोगशालाओं में भी किया जाता है.